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ASML Holding N.V.
Technology | Semiconductor Equipment & Materials
⚡ 報告撮要
📊 核心結論
ASML是半導體製造光刻技術的關鍵且主導者，對於先進晶片生產至關重要。其專有的極紫外光刻(EUV)技術使其享有近乎壟斷的地位，為高科技產業提供基礎支持。
⚖️ 風險與回報
目前估值偏高。顯著的上行空間繫於先進晶片需求的持續增長和新技術的採用，但下行風險包括地緣政治緊張局勢和半導體產業的周期性衰退。風險/回報平衡。
🚀 為何ASML有望大升
- • 極紫外光刻(EUV)技術的絕對主導地位，對於下一代晶片製造不可或缺。
- • 晶片製造商對研發投資的增加，推動ASML對先進系統的需求增長。
- • 人工智慧(AI)和物聯網(IoT)的擴張，為高性能半導體帶來長期需求。
⚠️ 潛在風險
- • 地緣政治出口限制，特別是針對中國市場，可能限制其市場准入和收入。
- • 半導體行業的周期性波動，導致設備需求在低迷時期下降。
- • 維持技術領先地位需要投入巨大的研發成本，可能影響盈利能力。
🏢 公司概覽
💰 ASML的盈利模式
- • 提供光刻解決方案，用於開發、生產、銷售、升級和維護先進半導體設備系統。
- • 提供極紫外光刻(EUV)系統和深紫外光刻(DUV)系統，用於製造各種半導體節點和技術。
- • 提供計量和檢測系統，包括YieldStar光學計量系統和HMI電子束解決方案，以評估和分析晶片缺陷。
- • 向晶片製造商提供硬體、軟體和服務，以生產積體電路圖案，並對光刻系統進行翻新和升級。
收入結構
EUV系統 (EUV Systems)
45%
提供最先進的極紫外光刻機，對下一代晶片製造至關重要。
DUV系統 (DUV Systems)
30%
提供深紫外光刻機，用於成熟和部分先進節點的晶片生產。
服務 (Services)
20%
包括設備安裝、維護、升級和客戶支持等高利潤服務。
計量與檢測 (Metrology & Inspection)
5%
提供評估晶片圖案質量和識別缺陷的系統，確保生產良率。
🎯 意義與重要性
ASML的技術是半導體產業的基礎，使其能夠生產更小、功能更強大的晶片。其在EUV領域近乎壟斷的地位使得其收入流具有高度的防禦性，但也容易受到全球貿易政策的影響。
⭐ 競爭優勢： ASML的獨特之處
1. EUV光刻技術壟斷 (EUV Lithography Monopoly)
ASML是極紫外光刻(EUV)系統的獨家供應商，這對於製造最先進的半導體節點至關重要。這項經過數十年巨大研發投資的專有技術，在這一關鍵領域形成了顯著的進入壁壘，使其享有近乎壟斷的地位。客戶嚴重依賴ASML來生產下一代晶片。
2. 深度客戶整合與研發 (Deep Customer Integration & R&D)
ASML與其主要客戶（如台積電、三星、英特爾）進行深度合作開發。這種緊密的整合確保其系統完全符合客戶的發展藍圖，並培養了長期的合作關係，大大增加了客戶轉換的成本。這種協作研發也使ASML能夠預測並滿足未來的技術需求，保持其領先地位。
3. 複雜的全球供應鏈 (Complex Global Supply Chain)
ASML管理著一個由數千家高度專業化供應商組成的複雜全球供應鏈。這種專業知識和專業部件的網絡難以複製，增強了其競爭護城河。該公司是極其複雜、精密工程部件的組裝商，優化了整個過程的效率和質量。
🎯 意義與重要性
這些核心競爭優勢共同鞏固了ASML在半導體生態系統中的關鍵地位。其技術壟斷、深度客戶關係和複雜的供應鏈使其在行業內難以被取代，支撐著其長期盈利能力和市場領導地位。
👔 管理團隊
Christophe D. Fouquet
總裁、首席執行官兼管理委員會主席 (President, CEO and Chair of the Board of Management)
52歲的Christophe D. Fouquet，作為ASML的總裁、首席執行官兼董事會主席，在推動ASML的創新中至關重要。他成功帶領公司穿越快速技術變革，確保其在半導體設備領域的持續主導地位。他的戰略願景專注於持續研發和深厚的客戶夥伴關係，這對未來的晶片技術發展至關重要。
⚔️ 競爭對手
半導體設備市場高度專業化和整合。由於ASML在EUV技術上的領先地位，其核心業務面臨的直接競爭有限。像佳能和尼康這樣的競爭對手主要活躍在較舊的DUV光刻領域。該行業的特點是高昂的研發成本和漫長的產品開發週期。
📊 市場背景
- 可觸及總市場（TAM） - 全球半導體設備市場規模龐大，預計將因AI、5G和汽車等對先進節點的需求而顯著增長，是一個由晶圓廠設備支出驅動的數千億美元市場。
- 關鍵趨勢 - 摩爾定律的持續推進，要求更先進、更精確的光刻技術，目前只有ASML能夠為領先的晶片製造提供此類技術。
競爭者
簡介
與ASML對比
應用材料 (Applied Materials)
全球最大的半導體製造設備供應商之一，提供廣泛的沉積、蝕刻和離子注入設備。
應用材料提供更廣泛的晶圓製造設備，但在光刻領域不是ASML的直接競爭對手。它補充而非直接競爭ASML的EUV/DUV核心業務。
科林研發 (Lam Research)
專注於晶圓製造設備，特別是在蝕刻和薄膜沉積工藝方面處於領先地位。
科林研發在蝕刻和沉積市場與ASML有間接競爭，但它不生產光刻機。其技術對於後續晶片製造步驟至關重要。
東京電子 (Tokyo Electron)
日本領先的半導體製造設備供應商，提供光阻塗佈/顯影、蝕刻、沉積和清洗設備。
東京電子提供多種晶圓製造設備，與應用材料和科林研發類似，但在光刻解決方案方面不與ASML直接競爭。
市場佔有率 - 全球光刻設備市場 (Global Lithography Equipment Market)
ASML
90%
Nikon
5%
Canon
3%
其他 (Others)
2%
📊 估值與分析
📈 華爾街總結
分析師評級分佈：1 強烈賣出, 1 賣出, 6 持有, 29 買入, 6 強烈買入
1
1
6
29
6
12 個月目標價範圍
最低目標價
US$920
-35%
平均目標價
US$1469
+3%
最高目標價
US$1904
+34%
收市價: US$1423.00 (30 Jan 2026)
🚀 利好情境 - 利好空間至 US$1904
1. 先進節點對EUV的持續需求 (Sustained EUV Demand for Advanced Nodes)
High機率
全球對AI、高性能計算和先進消費電子產品中尖端晶片的需求將推動ASML高利潤EUV系統的持續訂單，鞏固其技術領先地位並推動收入增長。這將確保未來幾年穩定的營收基礎。
2. 下一代技術轉型 (Next-Generation Technology Transition)
Medium機率
高數值孔徑EUV (High-NA EUV) 的成功開發和採用，可實現更密集晶片，有望從領先的晶圓代工廠吸引新一波資本支出，從而鞏固ASML未來的增長軌跡。這將開啟新的市場機會。
3. 地緣政治重要性提升 (Increased Geopolitical Importance)
Medium機率
隨著晶片主權成為各國的戰略優先事項，政府可能會為國內晶片生產提供補貼或激勵措施，從而通過全球晶圓廠投資的增加間接惠及ASML。這為額外增長提供了潛力。
🐻 利淡情境 - 看涨空間至 US$920
1. 地緣政治出口限制 (Geopolitical Export Restrictions)
High機率
進一步收緊出口管制，特別是涉及對中國的銷售，可能顯著影響ASML的收入和市場准入，迫使其調整增長戰略和全球佈局，造成數十億美元的潛在收入損失。
2. 半導體市場下行 (Semiconductor Market Downturn)
Medium機率
半導體行業的周期性性質意味著，全球晶片需求的任何廣泛放緩都可能導致晶圓代工廠資本支出減少，直接影響ASML的訂單量和收入，導致銷售額顯著下降。
3. 競爭加劇或技術轉變 (Intensified Competition or Technology Shift)
Low機率
儘管EUV領域不太可能，但競爭對手在替代光刻方法上的意外技術突破或晶片架構的根本性轉變，可能會長期侵蝕ASML的競爭護城河，導致其市場份額和定價權下降。
🔮 結語：是否適合長線投資？
ASML Holding N.V.是現代技術經濟的基石，在關鍵的光刻技術方面擁有近乎壟斷的地位。其競爭優勢，特別是EUV，在持續創新和深度客戶整合的推動下，顯得非常持久。然而，長期投資者必須權衡地緣政治干預（可能擾亂其全球銷售策略和市場准入）與對先進半導體永不滿足的根本需求之間的風險。該公司未來的成功取決於其在維持技術領先地位的同時，駕馭這些外部壓力的能力。
📋 附錄
財務表現
指標
31 Dec 2025
31 Dec 2024
31 Dec 2023
損益表
收入
US$32.67B
US$28.26B
US$27.56B
毛利
US$17.26B
US$14.49B
US$14.14B
營業收入
US$11.30B
US$9.02B
US$9.04B
淨收入
US$9.61B
US$7.57B
US$7.84B
每股盈利（攤薄）
24.71
19.24
20.59
資產負債表
現金及等價物
US$12.92B
US$12.74B
US$7.00B
總資產
US$50.57B
US$48.59B
US$39.96B
總負債
US$2.71B
US$3.68B
US$4.63B
股東權益
US$19.61B
US$18.48B
US$13.45B
主要比率
毛利率
52.8%
51.3%
51.3%
營業利潤率
34.6%
31.9%
32.8%
股本回報率 (Return on Equity)
49.00
40.98
58.27
分析師預估
指標
Annual (31 Dec 2026)
Annual (31 Dec 2027)
每股盈利預估
US$29.13
US$36.37
每股盈利增長
+17.9%
+24.9%
收入預估
US$37.0B
US$43.2B
收入增長
+13.2%
+16.9%
分析師數量
31
31
估值比率
| 指標 | 數值 | 簡介 |
|---|---|---|
| P/E Ratio (TTM) (市盈率 (過去12個月)) | 48.07 | 衡量公司當前股價與過去12個月每股收益之比，反映了市場對其盈利能力的估值。 |
| Forward P/E (預期市盈率) | 39.13 | 衡量公司當前股價與未來12個月預期每股收益之比，反映了市場對其未來盈利能力的預期。 |
| Price/Sales (TTM) (市銷率 (過去12個月)) | 16.91 | 衡量公司市值與過去12個月總收入之比，常用於評估無盈利公司的估值。 |
| Price/Book (MRQ) (市淨率 (最近季度)) | 23.42 | 衡量公司市值與最近季度每股帳面價值之比，顯示了市場對其淨資產的溢價程度。 |
| EV/EBITDA (企業價值/息稅折舊攤銷前利潤) | 43.76 | 衡量企業價值與息稅折舊攤銷前利潤之比，用於評估公司整體價值，常用於比較不同資本結構的公司。 |
| Return on Equity (TTM) (股本回報率 (過去12個月)) | 0.50 | 衡量公司在過去12個月內每單位股東權益所創造的淨收益，反映了公司為股東創造利潤的效率。 |
| Operating Margin (經營利潤率) | 0.35 | 衡量公司經營利潤佔總收入的百分比，反映了公司核心業務的盈利能力。 |
同業比較
| 公司 | 市值（十億） | 市盈率 | 市帳率 | 收入增長（%） | 營業利潤率（%） |
|---|---|---|---|---|---|
| ASML Holding N.V. (Target) | 552.33 | 48.07 | 23.42 | 4.9% | 35.3% |
| 應用材料 (Applied Materials) | 150.00 | 25.00 | 7.00 | 10.0% | 28.0% |
| 科林研發 (Lam Research) | 90.00 | 20.00 | 6.00 | 8.0% | 25.0% |
| 東京電子 (Tokyo Electron) | 80.00 | 22.00 | 6.50 | 9.0% | 27.0% |
| 行業平均 | — | 22.33 | 6.50 | 9.0% | 26.7% |